[发明专利]一种分层雕刻方法有效
| 申请号： | 201510259732.7 | 申请日： | 2015-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN104827815B | 公开（公告）日： | 2017-08-25 |
| 发明（设计）人： | 单威 | 申请（专利权）人： | 安徽一威贸易有限公司 |
| 主分类号： | B44C1/22 | 分类号： | B44C1/22 |
| 代理公司： | 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙)34119 | 代理人： | 程笃庆,黄乐瑜 |
| 地址： | 230011 安徽省合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种分层雕刻方法，包括以下步骤S1、获得雕刻模型；S2、选取原点，对雕刻模型的表层进行点分解生成表层点集，并根据表层点集中的分解点建立坐标；S3、在步骤S2的坐标中建立参考模型，参考模型由不少于一个参考点组成，且表层点集中的每一个分解点均对应参考模型的一个参考点；S4、根据每一对分解点与参考点的对应关系生成进给值；S5、根据进给值对分解点进行区间划分，每一区间中的分解点对应的进给值两两之间最大差值不大于预设浮动值；S6、针对每一区间建立雕刻路径；S7、根据雕刻路径对胚体进行雕刻。本发明可对胚体实现分层雕刻，降低胚体报废率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 分层 雕刻 方法 | ||
【主权项】：
一种分层雕刻方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、获得雕刻模型；S2、选取原点，对雕刻模型的表层进行点分解生成表层点集，并根据表层点集中的分解点建立坐标；S3、在步骤S2的坐标中建立参考模型，参考模型由不少于一个参考点组成，且表层点集中的每一个分解点均对应参考模型的一个参考点；S4、根据每一对分解点与参考点的对应关系生成进给值；S5、根据进给值对分解点进行区间划分，每一区间中的分解点对应的进给值两两之间最大差值不大于预设浮动值；S6、针对每一区间建立雕刻路径；S7、根据雕刻路径对胚体进行雕刻。
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