[发明专利]平行平晶光学非均匀性的绝对测量方法

摘要

本发明公开了一种平行平晶光学非均匀性的绝对测量方法。步骤为：对第一透射参考平晶工作面和待测平行平晶前表面进行一次干涉测量；在待测平行平晶后面放置反射参考平晶，对第一透射参考平晶和反射参考平晶工作面进行一次干涉测量；对第一透射参考平晶工作面和待测平行平晶后表面进行一次干涉测量；对第一透射参考平晶和反射参考平晶工作面进行一次空腔干涉测量；用第二透射参考平晶替换第一透射参考平晶，对第二透射参考平晶和第一透射参考平晶工作面进行一次干涉测量；对第二透射参考平晶和反射参考平晶工作面进行一次干涉测量；综合测量结果，得到待测平行平晶的光学非均匀性。本发明简单易行、精确高效，测量对象不受前后表面平行度的限制。

主权项

一种平行平晶光学非均匀性的绝对测量方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1，建立坐标系，以斐索型激光干涉仪的光轴发射方向为z轴，垂直地面方向为y轴，x轴、y轴、z轴构成拇指沿光轴方向的右手坐标系；采用斐索型激光干涉仪对第一透射参考平晶T₁工作面A和待测平行平晶S前表面B进行一次干涉测量得结果M₁；步骤2，沿着光轴方向，在待测平行平晶S后面放置反射参考平晶R，对第一透射参考平晶T1工作面A和反射参考平晶R工作面D进行一次干涉测量，得到待测平行平晶S的透射测量结果M₂；步骤3，将待测平行平晶S绕y轴旋转180度，对第一透射参考平晶T₁工作面A和待测平行平晶S后表面C进行一次干涉测量得结果M₃，将测量结果M₃沿y轴进行镜像反转得到步骤4，取走待测平行平晶S，对第一透射参考平晶T₁工作面A和反射参考平晶R工作面D进行一次空腔干涉测量得结果M₄；步骤5，用第二透射参考平晶T₂替换第一透射参考平晶T₁，第二透射参考平晶T₂作为干涉仪参考镜，将第一透射参考平晶T₁绕y轴旋转180度，对第二透射参考平晶T₂工作面E和第一透射参考平晶T₁工作面A进行一次干涉测量得结果M₅；步骤6，对第二透射参考平晶T₂工作面E和反射参考平晶R工作面D进行一次干涉测量得结果M₆；步骤7，综合步骤1～6的测量结果，得到待测平行平晶S的光学非均匀性Δn。