[发明专利]一种污水处理设施及其污水处理方法

摘要

一种污水处理设施及其污水处理方法，包括壳体、壳体底部的曝气器、第一导流板、污泥斗、配水渠、第二导流板、沉淀斜板、溢流槽和清水槽；两块垂直壳体底面的第一导流板将壳体内腔依次分隔为第一好氧反应区、缺氧反应区和第二好氧反应区；工作时，污水从配水渠壁面的出水口流至缺氧反应区，再经第一导流板与壳体底部之间的缝隙流至第一、第二好氧反应区，经曝气器曝气后，一路从第一导流板的上方回流至缺氧反应区；另一路从导流孔流至污泥斗内，且反应沉淀后，污水从污泥斗的尖端通孔处排出，再次循环，清水经沉淀斜板后逐渐溢出，经溢流槽排至清水槽流出；结构简单、操作方便、流型规整；污泥浓度高、溶氧效率高、能耗低、建设成本和运行成本低。

主权项

一种污水处理设施，包括壳体和设置于所述壳体底部内壁的曝气器，其特征在于，还包括第一导流板、沉淀区、污泥斗、配水渠、第二导流板、溢流槽和清水槽；所述壳体中部设置两块垂直于壳体底面的第一导流板，将壳体内腔依次分隔为第一好氧反应区、缺氧反应区和第二好氧反应区，且所述第一导流板上下两端均与壳体间隔设置；所述第一好氧反应区和第二好氧反应区均设置有所述沉淀区和污泥斗，所述沉淀区设置于所述污泥斗开口端，且在所述污泥斗的尖端设置有通孔；所述第二导流板设置于所述污泥斗上端开口端内部，与污泥斗开口端的壁面平行设置；所述污泥斗开口端的壁面开设有导流孔，且所述第二导流板的顶端高于所述导流孔所在高度；所述配水渠设置于所述缺氧反应区中部上方，且配水渠壁面开设有出水口；所述沉淀区上方间隔设置有多个溢流槽，所述溢流槽两端分别连接所述污泥斗远端的第二导流板和清水槽，所述清水槽平行所述配水渠设置于所述壳体；所述第一好氧反应区和第二好氧反应区底部除所述污泥斗尖端正下方之外，均设置有曝气器。