[发明专利]一种非甾类抗炎药分子印迹聚合物的制备方法及应用有效

专利信息
申请号: 201510269371.4 申请日: 2015-05-25
公开(公告)号: CN104926993B 公开(公告)日: 2017-07-07
发明(设计)人: 路朋山 申请(专利权)人: 广州四友环保科技有限公司
主分类号: C08F226/06 分类号: C08F226/06;C08F220/04;C08F220/20;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/28
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司44102 代理人: 陈卫
地址: 510660 广东省广州市广州高新技术产业开*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种非甾类体抗炎药分子印迹聚合物的制备方法与应用。所述方法以非甾体抗炎药为模板,先对分子印迹预聚合体系的构型、能量、反应配比以及复合反应的结合能进行分子模拟计算,根据所得结果设计出适合的分子印迹聚合物制备体系;再将模板、功能单体、交联剂、引发剂和制孔剂按一定质量比在反应釜中混合制得带有模板分子非甾体抗炎药的分子印迹聚合物;再将得到的分子印记聚合物研磨、洗脱、烘干,得到除去模板的非甾体抗炎药分子印迹聚合物。将得到的除去模板的非甾体抗炎药分子印迹聚合物做柱层析填料装柱,应用于从环境水样中提取非甾体抗炎药,具有选择性强、吸附量大等优点。
搜索关键词: 一种 非甾类 抗炎药 分子 印迹 聚合物 制备 方法 应用
【主权项】:
一种非甾体抗炎药分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于,依次包括以下步骤:S1. 对分子印迹预聚合体系的构型、能量、反应配比以及复合反应的结合能进行分子模拟计算,根据所得结果设计出适合的分子印迹聚合物制备体系;S2. 以非甾体抗炎药为模板,将模板、功能单体、交联剂、引发剂、制孔剂加入反应釜中混合,超声脱气,然后充氮除氧,密封后于70~75℃恒温水浴聚合 12~16小时,得到带有模板分子非甾体抗炎药的分子印迹聚合物;S3. 将S2得到的聚合物研磨过筛,得均匀带有模板分子非甾体抗炎药的分子印迹聚合物颗粒,洗脱,得到留有分子印迹孔穴的聚合物颗粒,真空下烘干,即得到除去模板的非甾体抗炎药分子印迹聚合物;其中,步骤S2所述的功能单体为4‑乙烯基吡啶或三氟甲基丙烯酸中的一种或两种;所述的交联剂为乙二醇基二甲基丙烯酸酯或季戊四醇三丙烯酸酯中的一种或两种;所述模板、功能单体和交联剂的质量比为1:1~4:4~6;所述非甾体抗炎药选自阿司匹林、乙酰氨基酚或者安乃近。
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