[发明专利]密封的磁盘介质外壳在审
| 申请号： | 201510271711.7 | 申请日： | 2015-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN105047217A | 公开（公告）日： | 2015-11-11 |
| 发明（设计）人： | 稻叶宏;松本浩之;平山义幸;松村徹 | 申请（专利权）人： | HGST荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G11B33/14 | 分类号： | G11B33/14 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 关兆辉;谢丽娜 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种密封的磁盘介质外壳。在一个示例中该密封的磁盘介质外壳包括由多孔材料形成并包括磁盘介质室和在介质外壳结构一侧的室孔的介质外壳结构、位于该磁盘介质室内的一个或多个磁盘介质、在该介质外壳结构至少一部分上的类金刚石碳(DLC)涂层，利用该DLC涂层阻止气体分子通过该介质外壳结构，以及添加至该介质外壳结构并实质地密封该室孔的盖，其中预定气体或气体混合物被密封在该磁盘介质室内。 | ||
| 搜索关键词： | 密封 磁盘 介质 外壳 | ||
【主权项】：
一种密封的磁盘介质外壳，包括：介质外壳结构，所述介质外壳结构由多孔材料形成并包括磁盘介质室和在所述介质外壳结构一侧上的室孔；一个或多个磁盘介质，所述一个或多个磁盘介质位于所述磁盘介质室内；类金刚石碳(DLC)涂层，所述类金刚石碳(DLC)涂层在所述介质外壳结构的至少一部分上，利用所述DLC涂层阻止气体分子通过所述介质外壳结构；以及盖，所述盖附加至所述介质外壳结构并实质地密封所述室孔，其中，预定气体或气体混合物被密封在所述磁盘介质室内。
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