[发明专利]用于制作掩模集成框架的对位方法及系统有效
| 申请号： | 201510272246.9 | 申请日： | 2015-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN104894510B | 公开（公告）日： | 2017-06-16 |
| 发明（设计）人： | 张新建 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20;C23C14/02;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司11319 | 代理人： | 苏培华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及显示技术领域，公开了一种用于制作掩模集成框架的对位方法，包括以金属框架的中心为坐标原点建立绝对坐标系，所述金属框架的中心与以作为基准的阵列基板的中心重合；控制所述阵列基板移动，使像素点在绝对坐标系下的坐标与所述预设的理论值的偏移量小于预定误差值；将移动阵列基板后的像素点在绝对坐标系下的坐标传输至张网机。本发明减小了利用mother glass制作MFA时对位的偏差，降低了最终用该MFA蒸镀出来的显示器件会存在不良的风险。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制作 集成 框架 对位 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种用于制作掩模集成框架的对位方法，其特征在于，包括：以金属框架的中心为坐标原点建立绝对坐标系，所述金属框架的中心与以作为基准的阵列基板的中心重合；控制所述阵列基板移动，使像素点在绝对坐标系下的坐标与所述预设的理论值的偏移量小于预定误差值；将移动阵列基板后的像素点在绝对坐标系下的坐标传输至张网机；所述方法还包括将移动阵列基板后的阵列基板上的对位孔、厚度测试区域在所述绝对坐标系下的坐标传输至张网机。
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