[发明专利]一种具有量子点结构的紫外发光二极管有效

专利信息
申请号: 201510282242.9 申请日: 2015-05-28
公开(公告)号: CN104966768B 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: 张雄;栾华凯;崔一平 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/14;H01L33/16
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204 代理人: 柏尚春
地址: 210096*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种具有量子点电子阻挡层(EBL)结构的紫外发光二极管(UV‑LED),包括由下至上依次设置的蓝宝石衬底、AlN成核层、非掺杂u型AlGaN缓冲层、n型AlGaN层、AlxGa1‑xN/AlyGa1‑yN量子阱有源区、p型AlN/AlGaN量子点电子阻挡层、p型AlGaN层和氧化铟锡导电层(ITO),在n型AlGaN层上引出n型欧姆电极,在氧化铟锡导电层(ITO)上引出p型欧姆电极。本发明通过采用自组装AlN/AlGaN量子点的p型掺杂层作为电子阻挡层和空穴注入层,能够有效抑制电子溢出有源区,增强空穴注入有源区效率,从而提高有源区内载流子的复合效率。并且用AlN取代蓝光LED中常用的AlGaN作为EBL层,能够更加有效地减少EBL层对紫外光的吸收,提高UV‑LED的发光效率。
搜索关键词: 一种 具有 量子 结构 紫外 发光二极管
【主权项】:
一种具有量子点结构的紫外发光二极管,其特征在于:包括由下至上依次设置的蓝宝石衬底(101)、AlN成核层(102)、非掺杂AlGaN缓冲层(103)、n型AlGaN层(104)、AlxGa1‑xN/AlyGa1‑yN多量子阱有源区(105)、p型AlN/AlGaN量子点电子阻挡层(106)、p型AlGaN层(107)和氧化铟锡导电层(ITO)(108),在n型AlGaN层上引出n型欧姆电极(110),在氧化铟锡导电层(ITO)上引出p型欧姆电极(109);在所述AlxGa1‑xN/AlyGa1‑yN多量子阱有源区(105)与p型AlGaN层(107)之间设置有p型AlN/AlGaN量子点电子阻挡层(106);电子阻挡层(106)是在AlN中以自组装模式生长的、呈均匀分布的AlGaN量子点。
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