[发明专利]具备多层载物能力的离子束刻蚀系统及其刻蚀方法有效
| 申请号： | 201510284879.1 | 申请日： | 2015-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN105047512B | 公开（公告）日： | 2017-03-15 |
| 发明（设计）人： | 戴秀海;余海春;龙汝磊 | 申请（专利权）人： | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/305 | 分类号： | H01J37/305;H01J37/20 |
| 代理公司： | 上海申蒙商标专利代理有限公司31214 | 代理人： | 徐小蓉 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及微细加工技术领域，尤其是具备多层载物能力的离子束刻蚀系统及其刻蚀方法，其特征在于所述系统包括若干载物台和旋转轴，所述载物台沿所述旋转轴的轴向间隔设置在所述旋转轴上，所述载物台可随所述旋转轴转动，所述载物台上开设有离子束窗口，所述离子束窗口的开设位置与所述离子源所发射的离子束构成位置对应，满足于所述离子源所产生的离子束可穿过的要求。本发明的优点是提高了离子束刻蚀系统单次开机所能刻蚀的基片总数量，降低了批量作业时离子束刻蚀系统的开停机次数，提高了离子束刻蚀系统利用率，减少了工时，满足刻蚀工作需要。 | ||
| 搜索关键词： | 具备 多层 能力 离子束 刻蚀 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统，包括离子源和载物台，所述离子源对承载于所述载物台上的基片进行刻蚀，其特征在于：所述系统包括若干载物台和旋转轴，所述载物台沿所述旋转轴的轴向间隔设置在所述旋转轴上，所述载物台可随所述旋转轴转动，所述载物台上开设有离子束窗口，所述离子束窗口的开设位置与所述离子源所发射的离子束构成位置对应，满足于所述离子源所产生的离子束可穿过的要求。
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