[发明专利]在具有水性碱性可溶UV阻挡组合物和水性可溶UV透明薄膜基板上的成像有效
| 申请号： | 201510289298.7 | 申请日： | 2015-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN105319853B | 公开（公告）日： | 2020-06-30 |
| 发明（设计）人： | K·巴兰特普;B·D·阿莫斯;S·麦克卡蒙 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 胡嘉倩;江磊 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用水性碱可显影UV感光材料涂布基板，如印刷电路板，接着涂覆水性可溶UV透明薄膜以包覆UV感光材料。将水性碱性可溶UV阻挡组合物选择性地涂覆到UV阻挡薄膜的表面以充当掩模。对UV感光材料中未由掩模覆盖的部分施加UV光。用水性碱显影剂溶液同时移除UV阻挡组合物、UV透明薄膜和UV感光材料的选择性部分以便在基板上形成图像。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 水性 碱性 可溶 uv 阻挡 组合 透明 薄膜 基板上 成像 | ||
【主权项】：
一种方法，所述方法包含：a.提供基板，其包含一或多个孔口；b.与所述包含所述一或多个孔口的基板的表面相邻地涂覆水性碱性可溶UV感光材料；c.与所述水性碱性可溶UV感光材料相邻地涂覆水性可溶UV透明薄膜；d.选择性地与所述水性可溶UV透明薄膜相邻地涂覆水性碱性可溶UV阻挡组合物；e.除由所述水性碱性可溶UV阻挡组合物覆盖的区域以外，使所述水性碱性可溶UV感光材料暴露于UV辐射；和f.用碱性水溶液同时移除所述水性碱性可溶UV阻挡组合物、所述水性可溶UV透明薄膜和所述水性碱性可溶UV感光材料的选择性部分。
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