[发明专利]一种用于制备光学薄膜的方法

摘要

本发明公开了一种用于制备高性能光学薄膜的方法，首先，按照光学薄膜性能需要，设计初始膜系，并采用物理气相沉积技术制备光学薄膜；使用分光光度计或者椭偏仪对光学薄膜性能进行表征；建立光学薄膜结构模型，实现膜料特征参数与光学薄膜性能关联；对光学薄膜实测特性数据进行反演，通过多参数拟合确定膜料特征参数，同时获取物理气相沉积技术制备光学薄膜过程中膜料物理厚度控制的系统误差和延迟误差校正因子；依据获得的膜料特征参数，按照光学薄膜性能要求，重新优化光学薄膜膜系设计，结合膜料物理厚度控制误差修正，采用物理气相沉积技术制备高性能光学薄膜。本发明能全面优化光学薄膜设计，提高膜料物理厚度控制精度，适用于各种高性能光学薄膜制备。

主权项

一种用于制备光学薄膜的方法，其特征在于，该方法的步骤如下：步骤(1)、按照光学薄膜性能需要，设计初始膜系，并采用物理气相沉积技术制备光学薄膜；步骤(2)、使用分光光度计或者椭偏仪对光学薄膜性能进行表征；步骤(3)、建立光学薄膜结构模型，实现膜料特征参数与光学薄膜性能关联；步骤(4)、对光学薄膜实测特性数据进行反演，通过多参数拟合确定膜料特征参数，同时获取各种膜料物理厚度控制的系统误差和延迟误差校正因子；物理气相沉积技术制备光学薄膜时，光学薄膜膜系中任意层膜料的实际物理厚度与期望物理厚度间满足如下关系：d1＝△0d0+△1                               (1)式中：d1和d0分别是膜料实际物理厚度和期望物理厚度；△0和△1分别是膜料物理厚度的系统误差校正因子和延迟误差校正因子；步骤(5)、依据获得的膜料特征参数，按照光学薄膜性能要求，重新优化光学薄膜膜系设计，结合膜料物理厚度控制误差修正，采用物理气相沉积技术制备高性能光学薄膜。