[发明专利]一种计算强度关联成像自准直仪及测量方法有效
| 申请号： | 201510293249.0 | 申请日： | 2015-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN105157618B | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 赵连洁;霍娟;杨然;李明飞;张安宁;刘院省;莫小范 | 申请（专利权）人： | 北京航天控制仪器研究所 |
| 主分类号： | G01B11/26 | 分类号： | G01B11/26 |
| 代理公司： | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人： | 杨春颖 |
| 地址： | 100854 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种计算强度关联成像自准直仪及测量方法，包括：光源、数字微镜阵列DMD、控制器、分束器、透镜、待测件反光镜、CCD和强度关联计算模块；控制器的同步控制模块产生同步时钟信号作用到数字微镜阵列DMD和CCD上，强度关联计算模块同时记录光场调制模块产生的光场调制矩阵和CCD接收到的回波信号，并进行二阶强度关联计算，间接计算得到待测件的微小转动角度。本发明将量子成像技术中的计算关联成像方法引入自准直仪的设计中，可以有效减小空气扰动等因素引起的测量误差，提高系统的灵敏度和稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 关联成像 数字微镜阵列 计算模块 自准直仪 控制器 测量 待测件 关联 反光镜 矩阵 透镜 同步控制模块 同步时钟信号 光场调制 回波信号 空气扰动 量子成像 微小转动 场调制 分束器 记录光 灵敏度 自准直 二阶 减小 光源 引入 | ||
【主权项】：
1.一种计算强度关联成像自准直仪，其特征在于：包括：光源(1)、数字微镜阵列DMD(2)、控制器(3)、分束器(4)、透镜(5)、待测件反光镜(6)、CCD(7)、强度关联计算模块(8)；控制器(3)包括光源调制模块和同步控制模块；数字微镜阵列DMD(2)包括多个微镜阵列，光源(1)照射在数字微镜阵列DMD(2)的微镜阵列上，控制器(3)的光源调制模块产生光场调制矩阵，将光场调制矩阵存至强度关联计算模块(8)，并将该光场调制矩阵加载到数字微镜阵列DMD(2)上，使多个微镜阵列发生不同角度的翻转，微镜阵列反射光源(1)照射在数字微镜阵列DMD(2)的微镜阵列上的光束，形成调制光场，将该调制光场，在控制器(3)的同步控制模块发射的同步时钟信号控制下，入射至分束器(4)；控制器(3)的同步控制模块用于发射同步时钟信号，作用到数字微镜阵列DMD(2)和CCD(7)上，控制数字微镜阵列DMD(2)和CCD(7)同时发射和采集信号；分束器(4)将入射的调制光场分光成两路，分别是透射光束和反射光束，将调制光场分光得到的反射光束舍弃，将调制光场分光得到的透射光束入射到透镜(5)上形成平行光束后照射到待测件反光镜(6)，待测件反光镜(6)安装在待测件上，经待测件反光镜(6)反射的回波光束再次经过透镜(5)恢复成汇聚光束，并照射到分束器(4)上，分束器(4)将入射的汇聚光束分光成两路分别是透射光束和反射光束，将透镜(5)恢复成汇聚光束后照射到分束器(4)上分光得到的透射光束舍弃，将透镜(5)恢复成汇聚光束后照射到分束器(4)上分光得到的反射光束照射到CCD(7)上，在控制器(3)的同步控制模块发射的同步时钟信号控制下CCD(7)采集分束器(4)上分光得到的反射光束，形成回波信号，强度关联计算模块(8)记录该回波信号；强度关联计算模块(8)将储存的光场调制矩阵和记录的回波信号进行二阶强度关联计算，得到关联结果。
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