[发明专利]曝光装置有效
| 申请号： | 201510294077.9 | 申请日： | 2015-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN104865801B | 公开（公告）日： | 2017-03-01 |
| 发明（设计）人： | 陈善韬;刘建宏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人： | 彭瑞欣,陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光装置，所述曝光装置包括掩膜板，所述掩膜板上设置有掩膜图形，所述曝光装置还包括第一微透镜层，所述第一微透镜层设置在所述掩膜板的出光侧，且所述第一微透镜层利用穿过所述掩膜板的光线形成所述掩膜图形的缩小的实像，所述实像和所述掩膜板分别位于所述第一微透镜层的两侧。本发明利用微透镜的特性，使掩膜图形形成缩小的实像后投影到待曝光基板上，有效提高了曝光的精度和分辨率，节约了设备成本和研发成本。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，所述曝光装置包括掩膜板，所述掩膜板上设置有掩膜图形，其特征在于，所述曝光装置还包括第一微透镜层，所述第一微透镜层设置在所述掩膜板的出光侧，且所述第一微透镜层利用穿过所述掩膜板的光线形成所述掩膜图形的缩小的实像，所述实像和所述掩膜板分别位于所述第一微透镜层的两侧，所述曝光装置还包括第二微透镜层，所述第一微透镜层设置在所述掩膜板和所述第二微透镜层之间，所述实像形成在所述第一微透镜层和所述第二微透镜层之间，所述第二微透镜层用于使形成所述实像的像光均匀出射。
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