[发明专利]一种用于形成超薄铜箔剥离层的有机组合物及制备和应用有效
申请号: | 201510299266.5 | 申请日: | 2015-06-03 |
公开(公告)号: | CN104968155B | 公开(公告)日: | 2018-01-02 |
发明(设计)人: | 何建波;郭鹏 | 申请(专利权)人: | 合肥工业大学 |
主分类号: | H05K3/02 | 分类号: | H05K3/02;H05K3/00 |
代理公司: | 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙)34119 | 代理人: | 程笃庆,黄乐瑜 |
地址: | 230009 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种能形成超薄铜箔剥离层的有机组合物,其原料包括去离子水,植酸类化合物,强碱溶液,噻二唑类化合物/噻三唑类化合物;其中,植酸类化合物在有机组合物中的质量浓度为0.01‑21g/L,噻二唑类化合物/噻三唑类化合物在有机组合物中的质量浓度为0.01‑5g/L。本发明能在载体铜箔表面吸附形成剥离层,使后续电解沉积的超薄铜箔具有稳定的可剥离性。本发明与苯并三氮唑相比,能使超薄铜箔具有更稳定的可剥离性,并且对电沉积过程的导电性能影响更小,较好地解决了吸附少时剥离难,吸附多时导电差的矛盾。本发明还公开了上述能形成超薄铜箔剥离层的有机组合物的制备方法和应用方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 形成 超薄 铜箔 剥离 有机 组合 制备 应用 | ||
【主权项】:
一种能形成超薄铜箔剥离层的有机组合物,其特征在于,其原料包括去离子水,植酸类化合物,强碱溶液,且还包括噻二唑类化合物或噻三唑类化合物;其中,植酸类化合物在有机组合物中的质量浓度为0.01‑21g/L,噻二唑类化合物或噻三唑类化合物在有机组合物中的质量浓度为0.01‑5g/L。
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