[发明专利]金属纳米颗粒粒径的测量方法有效

专利信息
申请号: 201510301828.5 申请日: 2015-06-05
公开(公告)号: CN105092433B 公开(公告)日: 2018-04-10
发明(设计)人: 白本锋;肖晓飞 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G01N15/02 分类号: G01N15/02
代理公司: 深圳市鼎言知识产权代理有限公司44311 代理人: 哈达
地址: 100084 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种金属纳米颗粒粒径的测量方法,包括提供一金属纳米颗粒粒径的测量系统;校准金属纳米颗粒粒径测量系统,得到参考光与测量光的强度比,作为基准及,和为选取的特征波长;预估金属纳米颗粒种类及粒径的分布范围;根据选取的两个特征波长λ1及λ2,建立金属纳米颗粒在两个波长和处的吸光度比值与粒径与之间的关系;根据两个特征波长λ1及λ2,建立修正后的吸光度比值与平均粒径与之间的修正关系;将金属纳米颗粒承载于所述样品池,测量金属纳米颗粒的透过率、,获得吸光度和其比值;以及将上述得到的吸光度的比值,分别代入修正前的关系和修正后的吸的修正关系中,得到待测纳米颗粒样品的修正前的平均粒径及修正后的平均粒径。
搜索关键词: 金属 纳米 颗粒 粒径 测量方法
【主权项】:
一种金属纳米颗粒粒径的测量方法,包括:提供一金属纳米颗粒粒径的测量系统,包括一光源模组,斩光器,参考样品池,一反射镜,一样品池,一光电探测单元以及一数据处理单元;所述光源模组发出的单色光经过斩光器分光后,形成一参考光及一测量光;其中所述参考光经过参考样品池后进入光电探测单元,经光电探测单元处理后输入数据处理单元;所述测量光经过反射镜反射后,进入样品池,经过样品池后进入光电探测单元,经过光电探测单元处理后,输入数据处理单元;校准金属纳米颗粒粒径测量系统,得到参考光与测量光的强度比,作为基准及其中λ1和λ2为选取的特征波长;预估金属纳米颗粒种类及粒径的分布范围;根据选取的两个特征波长λ1及λ2,由吸光度比值吸光度和平均消光截面与粒径D之间的关系<Cext(λ1,D,AR,CV)>和<Cext(λ2,D,AR,CV)>,建立金属纳米颗粒在两个波长λ1和λ2处的吸光度比值与粒径D与之间的关系;根据两个特征波长λ1及λ2,由修正后的吸光度比值吸光度和平均消光截面与粒径D之间的关系<Cext(λ1,D,AR,CV)>和<Cext(λ2,D,AR,CV)>,建立修正后的吸光度比值与平均粒径与之间的修正关系,其中,AR表示金属纳米颗粒的长宽比,CV表示样品分散性;将金属纳米颗粒承载于所述样品池,测量金属纳米颗粒的透过率Tλ1、Tλ2,获得金属纳米颗粒在两个波长λ1和λ2处的吸光度和及其比值以及将上述得到的吸光度的比值分别代入修正前吸光度比值与粒径D之间的关系和修正后的吸光度比值与平均粒径之间的修正关系中,得到待测纳米颗粒样品的修正前的平均粒径及修正后的平均粒径
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