[发明专利]基于螺双芴核心的芴-咔唑共聚超支化聚合物在审
| 申请号： | 201510304355.4 | 申请日： | 2015-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN104861156A | 公开（公告）日： | 2015-08-26 |
| 发明（设计）人： | 许并社;武钰铃;李洁;王华;孙静;梁文青;杨君礼 | 申请（专利权）人： | 太原理工大学 |
| 主分类号： | C08G61/12 | 分类号： | C08G61/12;C09K11/06;H05B33/14 |
| 代理公司： | 太原华弈知识产权代理事务所 14108 | 代理人： | 李毅 |
| 地址： | 030024 *** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于螺双芴核心的芴-咔唑共聚超支化聚合物，由作为第一蓝光基团的螺双芴核结构单元，以及连接在所述核结构单元上的、由第二蓝光基团与红光基团共聚成的支链结构单元构成，其中支链上第二蓝光基团为9,9-二辛基芴单元与异辛基咔唑单元的交替共聚物，红光基团为4,7-二(2’-噻吩)-2,1,3-苯并噻二唑单元，聚合物平均数均分子量9000～12000，分子量分布1.5～3。本发明所述超支化聚合物溶解性能好，用于制作单发光层结构器件，不仅能够提高器件的发光效率和器件色度的稳定性，而且对基质的选用没有特殊要求，可以大大简化制作工艺并降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 螺双芴 核心 共聚 超支 聚合物 | ||
【主权项】：
一种基于螺双芴核心的芴‑咔唑共聚超支化聚合物，由下述结构式I表示的、作为第一蓝光基团的螺双芴核结构单元，以及连接在所述核结构单元上的、由第二蓝光基团与红光基团共聚成的支链结构单元构成，所述第二蓝光基团为下述结构式II表示的9,9‑二辛基芴单元与异辛基咔唑单元的交替共聚物，红光基团为下述结构式III表示的4,7‑二(2’‑噻吩)‑2,1,3‑苯并噻二唑单元，其中，螺双芴核结构单元的摩尔百分比为1%～20%，红光基团的摩尔百分比为0.05%～0.10%，第二蓝光基团的摩尔百分比为79.9%～98.95%，且所述支链上第二蓝光基团中，9,9‑二辛基芴单元与异辛基咔唑单元的摩尔百分比为1∶1；![]()
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所述超支化聚合物的平均数均分子量9000～12000，分子量分布1.5～3。
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