[发明专利]用RF等离子体循环和清洗去除处理室颗粒的系统和方法

摘要

本发明涉及用RF等离子体循环和清洗去除处理室颗粒的系统和方法。操作衬底处理系统的系统和方法包括在处理室内处理放置在衬底支撑件上的衬底。在处理期间供应前体气体和/或反应气体中的至少一种。从处理室移除衬底。选择性地供应运载气体和清洗气体到处理室。在N个循环期间在处理室内生成RF等离子体，其中N是大于1的整数。在N个循环中的每个循环期间，RF等离子体开通持续第一时间段并且关闭持续第二时间段。在N个循环中的每个循环的至少部分期间供应清洗气体。

主权项

1.一种操作衬底处理系统的方法，该方法包括：a)处理布置在处理室内的衬底支撑件上的衬底，其中，在所述处理期间供应前体气体和/或反应气体中的至少一种；b)从所述处理室移除所述衬底；c)选择性地供应运载气体和清洗气体到所述处理室；d)在N个循环期间在所述处理室内生成射频等离子体，其中，N是大于1的整数，其中，所述N个循环包括交替的第一时间段和第二时间段，并且其中在所述N个循环中的每个循环期间，所述射频等离子体开通持续所述第一时间段并且关闭持续所述第二时间段；以及e)在所述射频等离子体的所述N个循环中的每个循环的至少部分期间供应所述清洗气体，使得(i)当所述射频等离子体开通时在所述第一时间段期间不供应所述清洗气体，以及(ii)当所述射频等离子体关闭时在所述第二时段期间供应所述清洗气体。