[发明专利]离子注入装置及离子注入方法有效
| 申请号： | 201510310676.5 | 申请日： | 2015-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN105304442B | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 椛泽光昭;八木田贵典 | 申请（专利权）人： | 斯伊恩股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/21 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够广泛使用的离子注入装置及离子注入方法。本发明的离子注入装置(300)具备：射束扫描部(306)；及配设于射束扫描部(306)的下游的射束平行化部(308)。射束扫描部(306)在入射离子束的中心轴上的射束扫描部(306)的中央部具有扫描原点。射束平行化部(308)在扫描原点具有作为平行化透镜的焦点。离子注入装置(300)构成为，向射束扫描部(306)入射的入射离子束的焦点位置沿着入射离子束的中心轴而位于扫描原点的上游侧。向射束扫描部(306)入射的入射离子束的焦点位置被调整为，沿着入射离子束的中心轴而位于扫描原点的上游侧，以便补正由从射束平行化部(308)射出的出射离子束的空间电荷效应引起的发散现象。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种离子注入装置，其按照所给射束条件向被处理物进行注入处理，并具备射束扫描部；及配设于所述射束扫描部的下游的射束平行化部，该离子注入装置的特征在于，所述射束扫描部在入射离子束的中心轴上的所述射束扫描部的中央部具有扫描原点，所述射束平行化部在所述扫描原点具有作为平行化透镜的焦点，所述离子注入装置构成为，使向所述射束扫描部入射的入射离子束的焦点位置沿着所述入射离子束的中心轴而位于所述扫描原点的上游侧，向所述射束扫描部入射的入射离子束的焦点位置沿着所述入射离子束的中心轴而在所述扫描原点的上游侧被调整，以补正由从所述射束平行化部射出的出射离子束的空间电荷效应引起的发散现象，通过所述调整，向所述射束扫描部入射的入射离子束的焦点被配置在具有与所述射束条件中的离子种类、能量、射束电流或剂量对应的移动量的位置，且该位置相比所述扫描原点靠上游。
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