[发明专利]类金刚石粉生产方法与设备有效
申请号: | 201510313671.8 | 申请日: | 2015-06-05 |
公开(公告)号: | CN105088180A | 公开(公告)日: | 2015-11-25 |
发明(设计)人: | 刘南林 | 申请(专利权)人: | 刘南林 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/513 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 421800 *** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明利用等离子体气相化学沉积类金刚石膜方法,采用多层弧面高频电极、可溶性衬底及衬底连续移动装置设计的类金刚石粉生产设备,解决了用于生产类金刚石粉的设备及其不间断连续运行的问题。从而实现了类金刚石粉的工业化生产。类金刚石与金刚石性能并不完全相同,具有优异的力学、化学、光学、电学、热学性能,属于新材料领域的功能材料。类金刚石(简称DLC)粉可以应用于制造研磨、抛光剂,抗化学腐蚀表面处理涂层,防紫外线涂层,抗老化剂,防晒护肤霜,集成电路热沉,高能电容器,化工催化剂、添加剂等产品的生产原料。在航天、军工、电子、机械、化工等行业具有广阔的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 金刚石 生产 方法 设备 | ||
【主权项】:
本发明利用等离子体气相化学沉积类金刚石膜方法,采用多层弧面形状高频电极、可溶性衬底及衬底连续移动装置设计的类金刚石粉生产设备,解决了用于类金刚石粉生产的设备及其不间断连续运行的问题。从而实现了类金刚石粉的工业化生产。类金刚石与金刚石性能相似,具有优异的力学、化学、光学、电学、热学性能,属于新材料领域的功能材料。类金刚石(简称DLC)粉可以应用于制造研磨、抛光剂,抗化学腐蚀表面处理涂层,防紫外线涂层,抗老化剂,防晒护肤霜、集成电路热沉,高能电容器、化工催化剂等产品制造原料。在航天、军工、电子、机械、化工等行业具有广阔的应用前景。本发明独有的,与现有等离子体气相化学沉积类金刚石膜技术不同的技术特征为:1、采用多层相互平行的、正极(16)与负极(17)相间的弧面形状高频电极(7)增大类金刚石沉积面积,提高产能。2、采用可溶性有机聚合物薄膜作为衬底(11)材料,利于实现类金刚石沉积物与衬底(11)完全分离。3、采用柔性衬底(11)连续移动装置滚筒(12)、滚筒(15)、电动机(14)实现类金刚石粉生产设备不间断连续运行。除独有的,与现有技术不同的技术特征外,本发明还要求保护以下技术范围:4、采用多层平行非平面高频电极(7)进行等离子体气相化学沉积反应的装置。5、采用可溶性有机聚合物薄膜衬底(11)实现沉积物与衬底(11)完全分离的等离子体气相化学沉积反应生产沉积物的生产装置。6、采用柔性可溶性衬底(11)连续移动装置滚筒(12)、滚筒(15)、电动机(14)实现不间断连续运行的等离子体气相化学沉积反应连续生产沉积物的装置。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的