[发明专利]监视镜位置的方法和微光刻投射曝光设备的照明系统有效
申请号: | 201510317621.7 | 申请日: | 2008-12-19 |
公开(公告)号: | CN105045045B | 公开(公告)日: | 2018-10-19 |
发明(设计)人: | 简.霍恩;克里斯琴.肯普特;沃尔夫冈.法洛特-伯格哈特 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 微光刻投射曝光设备的照明系统表现了布置为多镜阵列且能够经由至少一个驱动器倾斜的镜。此外,照明系统表现了用于该镜的驱动电子装置,该驱动电子装置表现了具有第一分辨率的粗数模转换器(68)、具有第二分辨率的精数模转换器(70),以及加法器(72),第二分辨率高于第一分辨率,通过两个数模转换器(68、70)输出的输出量能够利用该加法器(72)相加以产生总量。该总量至少能够间接施加于该镜的至少一个驱动器。 | ||
搜索关键词: | 监视 位置 方法 微光 投射 曝光 设备 照明 系统 | ||
【主权项】:
1.监视多镜阵列(22)中的多个镜(24)的镜位置的方法,其包括如下步骤:a)确定取样速率,以该取样速率通过测量系统(52)测量测量值,从而所述测量值呈现有位于给定规范内的变化;b)以N倍取样速率和相应增加的变化来取样,其中所述N倍取样速率被选择以不再发生锯齿效应;c)通过平均来滤选以N倍取样速率呈现的测量值,使得因而所获得的滤选值呈现有所述给定规范内的变化。
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