[发明专利]涂布方法和涂布装置在审
| 申请号： | 201510324314.1 | 申请日： | 2015-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN104984873A | 公开（公告）日： | 2015-10-21 |
| 发明（设计）人： | 井杨坤 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | B05C5/00 | 分类号： | B05C5/00;B05C11/10 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 230012 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种涂布方法，用于在基板上涂布胶液以形成膜层，所述涂布方法包括以下步骤：S1、根据在预定时间段内形成的膜层的厚度与至少一个涂布参数之间的至少一种函数关系获取与目标膜层厚度相对应的涂布参数的初始值；S2、按照S1中获得的涂布参数的初始值开始进行涂布，以使获得的膜层的厚度达到初始的目标膜层厚度。相应地，本发明还提供一种涂布装置。本发明能够快速地确定涂布参数的值，从而提高涂布效率。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种涂布方法，用于在基板上涂布胶液以形成膜层，其特征在于，所述涂布方法包括以下步骤：S1、根据在预定时间段内形成的膜层的厚度与至少一个涂布参数之间的至少一种函数关系获取与目标膜层厚度相对应的涂布参数的初始值；S2、按照S1中获得的涂布参数的初始值开始进行涂布，以使获得的膜层的厚度达到初始的目标膜层厚度。
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