[发明专利]隧穿压力传感器有效

专利信息
申请号: 201510335552.2 申请日: 2015-06-17
公开(公告)号: CN105006520B 公开(公告)日: 2017-08-11
发明(设计)人: 朱平;张国军;吕晓静;李俊龙;高瑜宏 申请(专利权)人: 中北大学
主分类号: H01L49/02 分类号: H01L49/02;B81B7/02;B82Y15/00
代理公司: 太原科卫专利事务所(普通合伙)14100 代理人: 朱源,张宏
地址: 030051 山*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 发明涉及一种隧穿压力传感器,它的单元传感器采用双势垒单势阱系统,势阱层采用阱结构,由两端的六方氮化硼和夹在中间的Be离子掺杂氮化硼组成;第一势垒层和第二势垒层为石墨烯薄膜层并分别设有金属电极;氧化硅基底顶部长有六方氮化硼衬底,第一势垒层和第二势垒层长在六方氮化硼衬底上表面,氧化硅基底底部设硅电极;单元传感器以N×N的方式排列于六方氮化硼衬底表面;在第一势垒层和第二势垒层之间施加偏置电压Vb=0.3‑0.5V,在第二层势垒和硅电极之间施加栅极电压Vg=14‑16V。相比于其他类型的压力传感器,本发明所设计的隧穿压力传感器的稳定性更好,灵敏度比硅制力敏薄膜传感器要高近一个数量级。
搜索关键词: 压力传感器
【主权项】:
一种隧穿压力传感器,包括单元传感器、氧化硅基底(2),其特征在于:单元传感器采用双势垒单势阱系统,势阱层夹在上部的第一势垒层(5)和下部的第二势垒层(10)中间;势阱层采用阱结构,由两端的六方氮化硼(6、8)和夹在中间的Be离子掺杂氮化硼(7)组成;第一势垒层(5)和第二势垒层(10)为石墨烯薄膜层并分别设有金属电极(4、9);氧化硅基底(2)顶部长有六方氮化硼衬底(3),第一势垒层(5)和第二势垒层(10)长在六方氮化硼衬底(3)上表面,氧化硅基底(2)底部设硅电极(1);单元传感器以N×N的方式排列于氧化硅基底(2)表面;在第一势垒层(5)和第二势垒层(10)之间施加偏置电压Vb=0.3‑0.5V,在第二层势垒(10)和硅电极(1)之间施加栅极电压Vg=14‑16V。
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