[发明专利]一种超薄的MOSFET封装结构及封装方法在审

专利信息
申请号: 201510346850.1 申请日: 2015-06-19
公开(公告)号: CN104979222A 公开(公告)日: 2015-10-14
发明(设计)人: 曹凯;谢皆雷;吴超;罗立辉 申请(专利权)人: 宁波芯健半导体有限公司
主分类号: H01L21/56 分类号: H01L21/56;H01L23/31;H01L29/78
代理公司: 上海泰能知识产权代理事务所 31233 代理人: 宋缨;孙健
地址: 315336 浙江省宁波市杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种超薄的MOSFET封装结构,包括MOSFET晶圆,所述MOSFET晶圆的电极面上设有导通部分,所述MOSFET晶圆的侧壁呈沟槽结构;所述导通部分和沟槽结构的侧面铺有导电线路层;所述MOSFET晶圆的电极面上除导通部分外铺有绝缘保护层;所述导通部分的导电线路层上设有凸点;所述MOSFET晶圆的背面铺设有背面导电层。本发明还涉及上述结构的封装方法。本发明的封装结构工艺简单,可进行晶圆级加工,效率高,周期短,封装的整体厚度可以降低到很薄,封装的体积比较小。
搜索关键词: 一种 超薄 mosfet 封装 结构 方法
【主权项】:
一种超薄的MOSFET封装结构,包括MOSFET晶圆,其特征在于,所述MOSFET晶圆的电极面上设有导通部分,所述MOSFET晶圆的侧壁呈沟槽结构;所述导通部分和沟槽结构的侧面铺有导电线路层;所述MOSFET晶圆的电极面上除导通部分外铺有绝缘保护层;所述导通部分的导电线路层上设有凸点;所述MOSFET晶圆的背面铺设有背面导电层。
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