[发明专利]用以消除来自离子注入工艺的自燃副产物的方法和装置在审

专利信息
申请号: 201510350247.0 申请日: 2015-06-23
公开(公告)号: CN106298421A 公开(公告)日: 2017-01-04
发明(设计)人: 达斯廷·W·胡;迈克尔·S·考克斯;正·袁 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H01L21/67
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 代理人: 徐金国,赵静
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本文公开的实施方式大体涉及等离子体消除工艺和装置。等离子体消除工艺从诸如注入腔室之类的处理腔室获得前级管道流出物,且使流出物与反应物反应。所述流出物包含自燃副产物。放置在前级管道路径之内的等离子体发生器可将流出物和反应物离子化以促进流出物与反应物之间的反应。在排出气流路径之内的条件下,离子化的物种反应以形成保持在气相的化合物。在另一实施方式中,离子化的物种可反应以形成从气相凝结的化合物。然后通过收集器将凝结的颗粒物质从流出物中去除。所述装置可包括注入腔室、等离子体发生器、一个或多个泵和洗涤器。
搜索关键词: 用以 消除 来自 离子 注入 工艺 自燃 副产物 方法 装置
【主权项】:
一种方法,所述方法包括:使流出物从处理腔室流动到等离子体发生器中,其中所述流出物包含自燃材料;使反应物流动到所述等离子体发生器中;将所述反应物和所述自燃材料之一或多个离子化;在所述离子化之后,使所述自燃材料与所述反应物反应以产生气相流出物材料;和消除所述气相流出物材料。
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