[发明专利]可同时实现减反和多结构陷光的薄膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种可同时实现减反和多结构陷光的薄膜，由下至上依次为介质薄膜层、主体薄膜层和透明导电氧化物层；介质薄膜层的折射率为1.3～2；主体薄膜层由溶胶B成膜得到，溶胶B由空心SiO₂纳米颗粒溶胶与纳米粘结剂溶胶经杂化处理制得；溶胶B中空心SiO₂纳米颗粒溶胶与纳米粘结剂溶胶的质量比为1:0～1；透明导电氧化物层与主体薄膜层接触，透明导电氧化物层中的透明导电氧化物与主体薄膜层中的空心SiO₂纳米颗粒融合，构成过渡区。本发明公开的薄膜，可同时实现减反和多结构陷光，且对于长、短波光均有较好的作用。

主权项

一种可同时实现减反和多结构陷光的薄膜，其特征在于，由下至上依次为介质薄膜层、主体薄膜层和透明导电氧化物层；所述的介质薄膜层的折射率为1.3～2；所述的主体薄膜层由溶胶B成膜得到，溶胶B由空心SiO₂纳米颗粒溶胶与纳米粘结剂溶胶经杂化处理制得；所述的透明导电氧化物层与主体薄膜层接触，透明导电氧化物层中的透明导电氧化物与主体薄膜层中的空心SiO₂纳米颗粒融合，构成过渡区。