[发明专利]一种螺旋状GaN单晶纳米线及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510353880.5 申请日: 2015-06-25
公开(公告)号: CN105040096B 公开(公告)日: 2018-02-02
发明(设计)人: 简基康;程章勇;郭洁 申请(专利权)人: 广东工业大学
主分类号: C30B25/00 分类号: C30B25/00;C30B29/40;C30B29/62;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 广州市南锋专利事务所有限公司44228 代理人: 刘媖
地址: 510090 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种螺旋状GaN单晶纳米线及其制备方法,属于半导体纳米材料生产技术领域;本方法是利用化学气相沉积法制备螺旋状GaN纳米线,称取适量的金属Ga盛放在陶瓷舟中,将其置于水平管式炉的中间部位,称取适量MoCl5盛放在陶瓷舟中,置于距中心温区20~30cm的上游位置,同时在距中心温区20~25cm位置处放置已镀金处理的Si衬底,密封水平管式炉;启动真空系统,炉内真空度至1×10‑3Pa时;通入Ar气,加热保温,将Ar气调至10sccm,同时扭开氨气气流阀通入氨气,反应进行1~2h后,断开氨气并冷却至室温,最后在Si衬底上收集一层沉积物,即为螺旋状GaN单晶纳米线;本方法易于实现、工艺简易、成本较低。
搜索关键词: 一种 新型 螺旋状 gan 纳米 及其 制备 方法
【主权项】:
一种螺旋状GaN单晶纳米线的制备方法,其特征在于:利用化学气相沉积法制备;采用金属Ga和NH3气分别作为Ga源和N源, MoCl5作为Mo源,具体方法包括如下步骤:(1)称取金属Ga 盛放在陶瓷舟中,将其置于水平管式炉的中间部位,按摩尔比Mo/Ga=0.15~0.20称取MoCl5 盛放在陶瓷舟中,置于距中心温区20~30cm的上游位置,同时在距中心温区下游20~25cm位置处放置已镀金处理的Si衬底,密封水平管式炉;(2)启动真空系统,炉内真空度至1×10‑3 Pa时,通入Ar气,加热至940~1050℃,保温0.5~2小时,所述Ar气的气流速率为10~80sccm,NH3气气流速率为15~100 sccm,同时扭开氨气气流阀通入NH3气,反应进行1~2h后,断开氨气并冷却至室温,最后在Si衬底上收集一层沉积物,即为螺旋状GaN单晶纳米线。
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