[发明专利]结势垒肖特基二极管及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201510356521.5 申请日: 2015-06-25
公开(公告)号: CN105226102B 公开(公告)日: 2019-05-31
发明(设计)人: 田中智章 申请(专利权)人: 辛纳普蒂克斯日本合同会社
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/06;H01L21/329
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张涛;陈岚
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 公开了结势垒肖特基二极管及其制造方法。减小逆向电流并使正向电流大。在结势垒肖特基二极管中,用于在第一导电型的第一半导体区域以规定间隔与该第一半导体区域间形成pn接合区域的第二导电型的多个第二半导体区域被错开形成为交错状。在第二半导体区域间的区域形成用于形成肖特基接合区域的第一导电型的第三半导体区域。在第二半导体区域和第三半导体区域上形成电极。第二半导体区域在从阳极电极起的平面视图中具有四边形形状。沿Y方向具备多列的被沿X方向等间隔配置的第二半导体区域的列。以与各列的列内的第二半导体区域的X方向的间隔尺寸相比列间的第二半导体区域的Y方向的间隔尺寸变得更大的方式,对邻接的列间的X方向的偏移量进行设定。
搜索关键词: 结势垒肖特基 二极管 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种结势垒肖特基二极管,包含:在半导体基板上具有第一导电型的第一半导体区域,在该第一半导体区域被按交错状配置形成的第二导电型的多个第二半导体区域,pn接合区域以规定间隔形成在该多个第二半导体区域与该第一半导体区域之间,在所述第二半导体区域之间的区域形成的用于形成肖特基接合区域的第一导电型的第三半导体区域,以及在所述第二半导体区域和第三半导体区域之上形成的电极,在该结势垒肖特基二极管中,每个所述第二半导体区域在从所述电极起的平面视图中具有四边形形状,沿Y方向具备多列的被沿X方向等间隔地配置的所述第二半导体区域的列,以与各所述列内的所述第二半导体区域的X方向的间隔相比不同所述列内的所述第二半导体区域之间的Y方向的间隔变得更大的方式,对邻接的列之间的X方向的偏移量进行设定。
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