[发明专利]一种用于3D微结构制造的流体光刻方法

摘要

本发明是一种用于3D微结构制造的流体光刻方法，属于微细加工制造领域。所述流体光刻方法是在一个微流体管道内对连续流动的光刻胶进行曝光，实现了流水线模式的光刻加工。与传统光刻方法相比，流体光刻具有高效率、高精度的加工优势，它能够在一分钟内加工数十上百个微粒、加工精度能够达到1μm。

主权项

一种用于3D微结构制造的流体光刻方法，其特征是：该方法步骤如下：首先，在流场作用下，研究感光介质与光的相互作用机理，做到在微流体管道内对流动光刻胶进行均匀、稳定的曝光，避免出现结构残缺和畸变；其次，采用由下而上的曝光方式，这样做有利于保持光刻微粒始终紧贴微流体管道底部，从而有利于提高曝光过程的稳定性，避免出现曝光微粒在微流体管道内上下浮动的情况；第三，采用PDMS氧化抑制剂来有效抑制在曝光过程中出现的光刻胶与微流体管道内边之间的粘附现象，保证光刻过程能够顺利进行；第四，利用电脑直接生成曝光图案，并通过数字微镜阵将其投影到焦面位置，中间过程不需要掩模板，这样以来便可以根据自己需要任意设计曝光图案，提高了加工的灵活性；最后，利用电脑来不断控制光刻机的快门打开与闭合，从而达到连续光刻的效果，而感光固化的光刻微粒将随着管道内的流动液体排出微流体管道，整个曝光过程将实现流水线模式的加工，该方法实现了动态曝光加工方式，能够对流场作用下的光刻胶进行曝光。