[发明专利]EUV光源、曝光装置和一体式旋转结构制作方法有效
| 申请号： | 201510363583.9 | 申请日： | 2015-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN106324997B | 公开（公告）日： | 2018-03-30 |
| 发明（设计）人： | 伍强;岳力挽 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 吴敏 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种EUV光源、曝光装置和一体式旋转结构制作方法，其中EUV光源包括液滴阵列，适于依次向下方的环形辐射位置喷吐液滴；激光源，适于产生激光束，使旋转扫描依次轰击到达环形辐射位置的液滴，形成辐射极紫外光；一体式旋转结构，位于液滴阵列和激光源之间，包括聚光镜和电机驱动轴，聚光镜包括内凹的第一表面以及相对的第二表面，第二表面与电机驱动轴相连接，第一表面包括偏心且倾斜的椭球形反射面以及包围椭球形反射面的非反射面，一体式旋转结构适于旋转扫描，旋转扫描时偏心且倾斜的椭球形反射面收集辐射的极紫外光，并将收集的极紫外光汇聚于环形辐射位置下方的中心焦点。EUV光源输出的极紫外光的功率增加。 | ||
| 搜索关键词： | euv 光源 曝光 装置 体式 旋转 结构 制作方法 | ||
【主权项】：
一种EUV光源，其特征在于，包括：液滴阵列，所述液滴阵列包括呈环形排布的若干喷嘴，若干喷嘴适于依次向下方的环形辐射位置喷吐液滴；激光源，适于产生激光束，使激光束从液滴阵列上方入射并旋转扫描，依次轰击到达环形辐射位置的液滴，液滴受到激光轰击时形成等离子体，等离子体辐射极紫外光；一体式旋转结构，位于液滴阵列和激光源之间，所述一体式旋转结构包括聚光镜、与聚光镜表面的一体连接的电机驱动轴，所述电机驱动轴和聚光镜是通过一个整体的加工材料加工形成，所述聚光镜包括内凹的第一表面以及相对的第二表面，第一表面与液滴阵列相对，第二表面与电机驱动轴相连接，所述第一表面包括偏心且倾斜的椭球形反射面以及包围椭球形反射面的非反射面，所述一体式旋转结构适于旋转扫描，旋转扫描时偏心且倾斜的椭球形反射面收集辐射的极紫外光，并将收集的极紫外光汇聚于环形辐射位置下方的中心焦点。
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