[发明专利]一种酸性氯化体系含铜蚀刻废液电积脱铜及再生的方法在审
申请号: | 201510364879.2 | 申请日: | 2015-06-26 |
公开(公告)号: | CN105039989A | 公开(公告)日: | 2015-11-11 |
发明(设计)人: | 郭志敏;郭峰;林元吉 | 申请(专利权)人: | 无锡市瑞思科环保科技有限公司 |
主分类号: | C23F1/46 | 分类号: | C23F1/46;C25C1/12 |
代理公司: | 无锡华源专利商标事务所(普通合伙) 32228 | 代理人: | 冯智文;聂启新 |
地址: | 214112 江苏省无锡市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种酸性氯化体系含铜蚀刻废液电积脱铜及再生的方法,该方法将线路板蚀刻过程产生的蚀刻废液过滤后转入电积槽中进行电积,电积槽电积过程中发生氧化还原反应,阴极析出标准一号阴极铜板,阳极析出氯气,氯气用于氧化蚀刻废液生成蚀刻再生液,实现蚀刻废液的电积脱铜和再生。本发明方法工艺流程简单,且易于操作;脱铜产品可直接达到标准产品要求;再生过程不添加任何化学试剂,蚀刻废液在线循环利用,实现零排放。 | ||
搜索关键词: | 一种 酸性 氯化 体系 蚀刻 废液 电积脱铜 再生 方法 | ||
【主权项】:
一种酸性氯化体系含铜蚀刻废液电积脱铜及再生的方法,其特征在于包括如下步骤:(1)对线路板蚀刻过程溢流出的含铜蚀刻液废液进行过滤,将过滤后无固体颗粒的澄清含铜蚀刻废液用泵打至电解液循环槽中备用;(2)将步骤(1)所得的滤液用泵打至电积槽中,进行电积脱铜;电积槽电压为1.5‑2.5V,电流密度为100‑500A/m2;(3)将步骤(2)得到的阴极铜经过烫洗后用压缩空气烘干;烫洗条件为pH为1‑4,温度为70‑90℃,烫洗时间为10‑20min;(4)将步骤(2)得到的阳极氯气通过文丘里装置负压的作用下与蚀刻废液的亚铜离子在再生槽中充分溶解反应成蚀刻再生液;(5)将步骤(4)制得的蚀刻再生液与阳极液按比例混合后,形成再生子液,将该子液用泵打至线路板蚀刻过程的新液处,循环蚀刻;所述电极槽中,阴极为钛板,阳极为DSA析氯阳极,且阳极装入由不带电荷的为渗透膜构成的阳极盒装置中。
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