[发明专利]半导体覆盖用玻璃和使用该玻璃形成的半导体覆盖用材料在审

专利信息
申请号: 201510366918.2 申请日: 2011-01-19
公开(公告)号: CN105152532A 公开(公告)日: 2015-12-16
发明(设计)人: 西川欣克 申请(专利权)人: 日本电气硝子株式会社
主分类号: C03C8/04 分类号: C03C8/04;C03C8/14;C03C8/20
代理公司: 北京奉思知识产权代理有限公司 11464 代理人: 吴立;邹轶鲛
地址: 日本滋贺*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的在于,提供一种环境负荷小且半导体表面覆盖后的表面电荷密度大的半导体覆盖用玻璃。本发明的半导体覆盖用玻璃的特征在于,为下述(1)或(2)中的任一种。下述(2)的半导体覆盖用玻璃,环境负荷小且半导体表面覆盖后的表面电荷密度大,且化学耐久性优异。(1)以质量%计,含有ZnO 50~65%、B2O3 19~28%、SiO2 7~15%、Al2O3 3~12%、Bi2O3 0.1~5%的组成,实质上不含铅成分的半导体覆盖用玻璃;(2)以质量%计,含有ZnO 40~60%、B2O3 5~25%、SiO2 15~35%、Al2O3 3~12%的组成,实质上不含铅成分的半导体覆盖用玻璃。
搜索关键词: 半导体 覆盖 玻璃 使用 形成 用材
【主权项】:
一种半导体覆盖用玻璃,其特征在于,以质量%计,含有ZnO40~60%、B2O35~25%、SiO220~35%、Al2O33~12%、MnO20.1~5%的组成,且实质上不含铅成分。
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