[发明专利]蚀刻液组合物及使用其制造液晶显示器用阵列基板的方法在审
| 申请号： | 201510368198.3 | 申请日： | 2015-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN105274526A | 公开（公告）日： | 2016-01-27 |
| 发明（设计）人： | 崔汉永;金炫佑;田玹守;赵成培;金相泰;李俊雨 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/14 | 分类号： | C23F1/14;G02F1/1333;G02F1/136 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 景鹏;姚开丽 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种蚀刻液组合物，该蚀刻液组合物包括金属层氧化剂、螯合剂和余量的水，其中，所述螯合剂的官能团的摩尔量相比于所述金属层氧化剂的摩尔量是0.1至10；以及，一种使用该组合物制造用于液晶显示器的阵列基板的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 使用 制造 液晶显示 器用 阵列 方法 | ||
【主权项】：
一种蚀刻液组合物，包括：金属层氧化剂、螯合剂和余量的水，其中，所述螯合剂的官能团的摩尔量相比于所述金属层氧化剂的摩尔量是0.1至10，所述螯合剂的官能团是在β位两侧都具有杂原子的单元，并且所述金属层氧化剂的摩尔量和所述螯合剂的官能团的摩尔量从下面的等式1和等式2获得：[等式1]![]()
[等式2]![]()
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