[发明专利]一种大视场高数值孔径全球面光刻机投影物镜有效
| 申请号： | 201510382003.0 | 申请日： | 2015-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN104950427B | 公开（公告）日： | 2017-06-13 |
| 发明（设计）人： | 邓超;邢廷文;朱咸昌 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G02B13/22 | 分类号： | G02B13/22;G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种大视场高数值孔径全球面光刻机投影物镜，其像方有效视场为132×132mm，像方数值孔径可达0.17。物镜采用物方、像方双远心结构，共使用了21片透镜，所有透镜表面都为纯球面。本发明以对称、简单的结构实现所需的微米级的分辨率，保证了曝光所需足够的光强，能很好地解决国内现有大面积平板光刻设备的分辨率低、图像传递能力差的问题，同时，本发明实现了对系统研制的短周期、低成本的控制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 视场 数值孔径 球面 光刻 投影 物镜 | ||
【主权项】：
一种大视场高数值孔径全球面光刻机投影物镜，该投影物镜将掩模上图像转移成像到硅片面上，其特征在于：该投影物镜从掩模面开始沿光轴依次包含：一具有正光焦度的第一透镜组(G1)；一具有较小正光焦度或较小负光焦度的第二透镜组(G2)；一具有正光焦度的第三透镜组(G3)；一具有正光焦度的第四透镜组(G4)；其中，所述各透镜组焦距满足以下关系：8.0＜|fG2/fG1|＜20.00.18＜|fG3/fG2|＜0.30.21＜|fG4/fG3|＜0.56其中：fG1：所述第一透镜组(G1)的焦距；fG2：所述第二透镜组(G2)的焦距；fG3：所述第三透镜组(G3)的焦距；fG4：所述第四透镜组(G4)的焦距。
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