[发明专利]一种光波导及其制作方法有效
申请号: | 201510385001.7 | 申请日: | 2015-06-30 |
公开(公告)号: | CN104898202B | 公开(公告)日: | 2018-03-09 |
发明(设计)人: | 徐培鹏;史玉秀;聂秋华;沈祥;李双 | 申请(专利权)人: | 宁波大学 |
主分类号: | G02B6/10 | 分类号: | G02B6/10;G02B6/12;G02B6/136 |
代理公司: | 宁波诚源专利事务所有限公司33102 | 代理人: | 张一平,徐芙姗 |
地址: | 315211 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 一种光波导及其制作方法,包括SOI基片,其特征在于所述SOI基片的顶层硅上设有一层掩膜层,所述掩膜层呈现光波导的掩膜图案,所述掩膜层的上方设有一层薄膜层,所述薄膜层与所述掩膜层相接触的面相互匹配,并且所述薄膜层的顶部为光滑平整的表面。通过该方法种制备的硫系玻璃光波导,制作工艺简单可控,制作的光波导均匀性好;而且方法无需对硫系玻璃膜层进行显影、刻蚀等传统光波导制作过程,可避免显影液、等离子气体对硫系玻璃的腐蚀作用和繁琐的刻蚀参数调节。 | ||
搜索关键词: | 一种 波导 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种光波导的制作方法,其特征在于:包括以下步骤,1)在SOI基片(1)的顶层硅上生长一层掩膜层(2);2)对掩膜层(2)依次进行光刻和刻蚀,使得该掩膜层(2)呈现需要制作的光波导的掩膜图案;3)在呈现掩膜图案的掩膜层(2)上形成一层薄膜层(3),该薄膜层(3)与掩膜层(2)相接触的面的形状相互匹配;4)对薄膜层(3)的顶部表面进行加热磨平工艺使其形成光滑平整的表面;所述薄膜层为硫系玻璃材料。
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