[发明专利]一种氮化硅微米管制造方法有效

专利信息
申请号: 201510388039.X 申请日: 2015-07-03
公开(公告)号: CN105047920B 公开(公告)日: 2017-05-17
发明(设计)人: 汤自荣;胡浩;龙胡;龚渤;史铁林 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01M4/58 分类号: H01M4/58;H01M4/136;H01M10/0525;C01B21/068
代理公司: 华中科技大学专利中心42201 代理人: 曹葆青
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种氮化硅微米管的制备方法,该方法将去除保护层的光纤表面涂覆一层均匀的石墨粉后在300~600℃的温度区间内热解,使光纤表面形成均匀厚度的碳膜;再将光纤在氮气条件下以1100~1600℃的温度区间高温加热,使碳膜与光纤表面的二氧化硅产生反应生成硅,然后硅与氮气发生反应在光纤表面形成氮化硅薄膜;将形成氮化硅薄膜的光纤刻蚀掉,形成中空的氮化硅微米管。该氮化硅微米管与炭黑进行混合,使氮化硅微米管增强导电性,然后在其中加入热熔型粘结剂形成混合物,再均匀涂在洗净的铜箔表面,可得到氮化硅微米管组成的硅负极材料。本发明制造的氮化硅微米管结构可用于制备锂电池的电极材料。本发明方法工艺流程简单,可控性强,成本比较低。
搜索关键词: 一种 氮化 微米 制造 方法
【主权项】:
一种氮化硅微米管制造方法,该方法包括下述步骤:第1步 将去除保护层的光纤表面涂覆一层均匀的石墨粉后在300~600℃的温度区间内热解,使光纤表面形成一层均匀厚度的碳膜;第2步 将表面覆盖一层碳膜的光纤在氮气条件下以1100~1600℃的温度区间高温加热,使光纤表面的碳膜与光纤表面的二氧化硅产生反应生成硅,然后生成的硅与氮气发生反应在光纤表面形成氮化硅薄膜;第3步 将形成氮化硅薄膜的光纤刻蚀掉,形成中空的氮化硅微米管。
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