[发明专利]ITO薄膜溅射靶材的清洁方法

摘要

本发明公开一种ITO薄膜溅射靶材的清洁方法，包括如下步骤：(1)先采用吸尘器将大颗粒物吸除干净；(2)采用相应目数的砂纸对靶材溅射面进行打磨，打磨方向顺应靶材溅射面形成有的跑道的方向，去除溅射面的氧化物和杂质；(3)采用吸尘器将靶材的溅射面上由于砂纸打磨而产生的颗粒物和灰尘吸除干净；(4)采用无尘布蘸取少量酒精对靶材的溅射面进行擦拭清洁，除去没有完全吸除的灰尘；(5)重复步骤(4)，直至无尘布表面只有轻微变色。通过采用以上步骤可有效清除溅射靶材表面氧化物、杂质和粉尘，进而可减少ITO薄膜生产中靶材表面结瘤，减少对靶材的清洁次数，提高生产效率，也提高靶材的利用率，降低生产成本。

主权项

一种ITO薄膜溅射靶材的清洁方法，其特征在于包括如下步骤：(1)清除大颗粒物：采用吸尘器将溅射成膜过程中沉落到靶材溅射面的大颗粒物吸除干净，得到A；(2)砂纸打磨：采用相应目数的砂纸对靶材A的溅射面进行打磨，打磨方向顺应靶材溅射面形成有的跑道的方向，同时将位于跑道中间表面泛黄的氧化层打磨干净，去除溅射面的氧化物和杂质，得到B；(3)清洁除尘：采用吸尘器将靶材B的溅射面上由于砂纸打磨而产生的颗粒物和灰尘吸除干净，得到C；(4)擦拭清洁：采用无尘布蘸取少量酒精对靶材C的溅射面进行擦拭清洁，除去没有完全吸除的灰尘；(5)重复步骤(4)，直至无尘布表面只有轻微变色。