[发明专利]直列式化学气相沉积系统有效
申请号: | 201510393924.7 | 申请日: | 2015-07-07 |
公开(公告)号: | CN105316658B | 公开(公告)日: | 2018-04-10 |
发明(设计)人: | 朴根鲁;李文镜 | 申请(专利权)人: | 奈恩泰克有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 刘兴鹏 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本文公开的是一种能够精确地使沉积对象保持在某一加工温度并且同时进行水平运动以便适合于该直列式化学气相沉积方法的结构的直列式化学气相沉积系统。根据本发明的一种直列式化学气相沉积系统包括布置在中心并在腔室内在水平方向上移动沉积对象的同时在沉积对象的表面上实施薄膜的化学气相沉积的加工腔室;设置在加工腔室的一侧并提供沉积对象进入该加工腔室的装载腔室;以及设置在装载腔室的相对侧并从该加工腔室接收沉积对象以便将沉积对象排出到外部的卸载腔室。 | ||
搜索关键词: | 线型 化学 沉积 系统 | ||
【主权项】:
一种直列式化学气相沉积系统,包括:加工腔室,布置在中心并且在所述腔室内在水平方向上移动沉积对象的同时在所述沉积对象的表面上进行薄膜的化学气相沉积;装载腔室,设置在所述加工腔室的一侧处并提供所述沉积对象到所述加工腔室的内部;和卸载腔室,设置在所述装载腔室的相反侧处并从所述加工腔室接收所述沉积对象以便将所述沉积对象排出到外部,其中,所述加工腔室包括:接收部件,设置在所述加工腔室内在所述装载腔室侧处并且接收从所述装载腔室提供的所述沉积对象;排出部件,设置在所述加工腔室内在所述卸载腔室侧处并且在上述化学气相沉积过程完成之后接收由所述水平移动部件传送的所述沉积对象以便将所述沉积对象排出到所述卸载腔室;和水平移动部件,其包括用于驱动所述沉积对象以在水平方向上往复运动的水平移动装置,和设置成连接到所述水平移动装置的下部并且在竖直方向上驱动所述水平移动装置移动的竖直驱动装置,其中所述竖直驱动装置驱动水平移动部件使其在竖直方向上移动以便移动沉积对象到其上侧,并且驱动水平移动部件使其在竖直方向上向下移动将设置于其上的沉积对象放置到排出部件上,并且其中所述沉积对象包括安装盘和沉积对象基板。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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