[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示装置有效
申请号: | 201510400994.0 | 申请日: | 2015-07-09 |
公开(公告)号: | CN104932127B | 公开(公告)日: | 2018-07-06 |
发明(设计)人: | 张鹏举;杜晓健;徐斌 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G02F1/1362 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,能够减少阵列基板的制备过程中所采用的构图工艺的次数。其中,所述阵列基板包括衬底基板以及层叠设置于衬底基板上的栅极、栅极绝缘层和有源层,还包括设置于有源层上的钝化层以及设置于钝化层上的同层设置的源极、漏极、第一电极和第二电极;钝化层上设置有第一过孔,第一过孔包括相对设置的两个倾斜侧面;第一电极至少部分覆盖第一过孔的一个侧面,第二电极至少部分覆盖第一过孔的另一个侧面,第二电极与公共电极引线电连接;钝化层上还设置有第二过孔,源极和漏极通过第二过孔与有源层连接,且第一电极与源极或漏极电连接。本发明提供的阵列基板可应用于显示装置中。 | ||
搜索关键词: | 阵列基板 钝化层 第二电极 第一电极 显示装置 漏极 源层 源极 衬底基板 电连接 公共电极引线 栅极绝缘层 侧面 层叠设置 构图工艺 倾斜侧面 同层设置 相对设置 制备过程 覆盖 制作 应用 | ||
【主权项】:
1.一种阵列基板,包括衬底基板以及层叠设置于所述衬底基板上的栅极、栅极绝缘层和有源层,其特征在于,所述阵列基板还包括设置于所述有源层上的钝化层以及设置于所述钝化层上的同层设置的源极、漏极、第一电极和第二电极;所述钝化层上设置有第一过孔,所述第一过孔包括相对设置的两个倾斜侧面;所述第一电极覆盖所述第一过孔的一个侧面的至少一部分,所述第二电极覆盖所述第一过孔的另一个侧面的至少一部分,且所述第一电极的底部朝所述第二电极的方向延伸,以及所述第二电极的底部朝所述第一电极的方向延伸,所述第二电极与公共电极引线电连接;所述钝化层上还设置有第二过孔,所述源极和所述漏极通过所述第二过孔与所述有源层连接,且所述第一电极与所述源极或所述漏极电连接。
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