[发明专利]一种有机半导体元件结构与其制作方法在审

专利信息
申请号: 201510401205.5 申请日: 2015-07-10
公开(公告)号: CN105161620A 公开(公告)日: 2015-12-16
发明(设计)人: 高启仁;王怡凯;胡堂祥 申请(专利权)人: 广州奥翼电子科技有限公司
主分类号: H01L51/10 分类号: H01L51/10;H01L51/40;H01L51/44;H01L51/48;H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人: 王会龙
地址: 511458 广东省广*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种有机半导体元件结构及其制作方法,其中该有机半导体元件结构包括基板,形成在基板上的源极电极、漏极电极、栅极电极;在所述源极电极、漏极电极上设置有保护层,所述保护层上设置有机半导体层,所述保护层和有机半导体层完全覆盖所述源极电极和漏极电极,在所述栅极电极与源极电极、漏极电极之间设置有栅极绝缘层。本发明利用黄光制程和图形化技术形成有机半导体元件结构,以生产具有一致特性的并具有到源极电极和漏极电极的低栅极电极漏电的结构,由于电极接口经由材料保护避免氧化,大幅降低电极接口接触电阻的问题产生。
搜索关键词: 一种 有机半导体 元件 结构 与其 制作方法
【主权项】:
一种有机半导体元件结构,包括基板,形成在基板上的源极电极、漏极电极、栅极电极;其特征在于:在所述源极电极、漏极电极上设置有保护层,所述保护层上设置有机半导体层,所述保护层和有机半导体层完全覆盖所述源极电极和漏极电极,在所述栅极电极与源极电极、漏极电极之间设置有栅极绝缘层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州奥翼电子科技有限公司,未经广州奥翼电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510401205.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top