[发明专利]药液排出机构、液处理装置以及药液排出方法有效
申请号: | 201510401651.6 | 申请日: | 2015-07-09 |
公开(公告)号: | CN105261577B | 公开(公告)日: | 2019-06-11 |
发明(设计)人: | 笹川典彦;稻田博一;浜田雅仁 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种药液排出机构、液处理装置以及药液排出方法,在用于排出粘度较高的药液的药液排出机构中,能够使该药液的排液路径所占的高度变小。该药液排出机构包括:储存部,其具有用于储存药液的储存空间;稀释液供给口,其开口于储存空间,以便供给用于使药液的粘度降低的稀释液;涡流形成部,其用于向储存空间供给流体而使稀释液和药液形成涡流,以便对稀释液和药液进行搅拌;以及排液口,其通过供给稀释液来使搅拌完成后的稀释液和药液流入到该排液口而自储存空间排出。采用这样的结构,能够使自排液口排出的废液的粘度降低,从而不必使与该排液口相连接的排液路径相对于水平面较大地倾斜。 | ||
搜索关键词: | 药液 排出 机构 处理 装置 以及 方法 | ||
【主权项】:
1.一种药液排出机构,其特征在于,该药液排出机构包括:储存部,其具有用于储存药液的储存空间;稀释液供给口,其开口于所述储存空间,以便供给用于使所述药液的粘度降低的稀释液;涡流形成部,其用于向所述储存空间供给流体而使所述稀释液和所述药液形成涡流,以便对所述稀释液和所述药液进行搅拌;以及排液口,其在所述储存空间中的位于所述稀释液供给口的上方的部位开口,以便通过供给所述稀释液来使搅拌完成后的所述稀释液和所述药液流入到该排液口而自所述储存空间排出,所述储存空间俯视为圆形,所述涡流形成部包含沿俯视的所述储存空间的切线方向供给所述稀释液的所述稀释液供给口,所述稀释液供给口由第1稀释液供给口和第2稀释液供给口构成,该第1稀释液供给口和第2稀释液供给口以能够在所述储存空间中形成俯视为彼此相反的朝向的涡流的方式分别沿所述储存空间的切线方向供给所述稀释液,自所述第1稀释液供给口和所述第2稀释液供给口交替地供给所述稀释液。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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