[发明专利]等离子体处理装置有效
申请号: | 201510405910.2 | 申请日: | 2012-03-30 |
公开(公告)号: | CN104994676B | 公开(公告)日: | 2017-07-28 |
发明(设计)人: | 山泽阳平 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种电感耦合型等离子体处理装置,其完美地抑制RF天线内的波长效应,并且能够自如且精细地控制等离子体密度分布。在腔室(10)的顶部或电介质窗(52)上设有用于在腔室(10)内生成电感耦合等离子体的环状的RF天线(54)。该RF天线(54)由在空间上分别形成为半圆的圆弧状且相对于高频供电部(62)电并联连接的两个线圈段(84(1)、84(2))构成。另外,在电介质窗(52)上也设有与RF天线(54)通过电磁感应能够耦合的带有可变电容器(58)的环状浮置线圈(60)。可变电容器(58)在主控制部(80)的控制下,通过容量可变部(82),在一定范围内可任意地变化。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种等离子体处理装置,其特征在于,包括:具有电介质窗的处理容器;基板保持部,其在所述处理容器内保持被处理基板;处理气体供给部,其向所述处理容器内供给所希望的处理气体,以对所述基板实施所希望的等离子体处理;内侧和外侧天线线圈,其在所述电介质窗外沿径方向隔开间隔地分别配置于内侧和外侧,以在所述处理容器内通过电感耦合而生成处理气体的等离子体;高频供电部,其将适合所述处理气体的高频放电的频率的高频电力供给到内侧和外侧天线线圈;浮置线圈,其被设置为电浮置状态,被配置在与内侧和外侧天线线圈中的至少一方通过电磁感应能够耦合的位置且被配置于所述处理容器外;和电容器,其被设置于所述浮置线圈的环内,其中,所述内侧天线线圈具有单一或串联连接的内侧线圈段,所述外侧天线线圈在环绕方向上被分割,具有电并联连接的多个外侧线圈段。
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