[发明专利]一种离子源维护装置及离子源维护方法有效

专利信息
申请号: 201510408020.7 申请日: 2015-07-10
公开(公告)号: CN104988467B 公开(公告)日: 2017-12-12
发明(设计)人: 闫宗楷;向勇;徐子明 申请(专利权)人: 宁波英飞迈材料科技有限公司
主分类号: C23C14/46 分类号: C23C14/46
代理公司: 上海申新律师事务所31272 代理人: 朱俊跃
地址: 315040 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及离子束溅射镀膜技术领域,尤其涉及一种离子源维护装置及离子源维护方法,通过插板阀将离子源维护腔与真空腔体分隔设置,在不将真空腔体暴露于大气环境下对离子源进行维护,避免了真空腔体的污染;并且由于离子源外侧加装了隔离保护套,使得射频离子源不会干扰腔体内带电粒子的正常运动,在进行镀膜工艺时离子源可在真空腔体内部进行移动,可调节靶源距离,改变束斑大小和束流空间分布,进而调节薄膜沉积质量和空间分布情况。
搜索关键词: 一种 离子源 维护 装置 方法
【主权项】:
一种离子源维护装置,其特征在于,基于真空腔体进行镀膜操作后的维护,所述离子源维护装置包括:无缝真空管,具有两开口端,且一所述开口端通过真空法兰与所述真空腔体贯通连接;真空波纹管,可伸缩地插接于所述无缝真空管的另一所述开口端;离子源隔离保护套,所述离子源隔离保护套内设置有离子源,且该离子源隔离保护套设置于所述真空波纹管内部,通过所述真空波纹管的伸缩带动所述离子源隔离保护套以及内部的离子源移至所述真空腔体以进行所述镀膜操作,或带动所述离子源隔离保护套以及内部的离子源移出所述真空腔体以进行所述维护操作;并且所述真空法兰上设置有插板阀,用于在所述维护操作时将所述离子源隔离保护套与所述真空腔体隔离。
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