[发明专利]一种p53‑MDM2结合抑制剂二羟基异喹啉衍生物的合成方法有效

专利信息
申请号: 201510408680.5 申请日: 2015-07-13
公开(公告)号: CN105017219B 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 夏军伟;郇恒桥;王业发;周治国;高强;郑保富 申请(专利权)人: 上海皓元生物医药科技有限公司;上海皓元医药股份有限公司
主分类号: C07D401/12 分类号: C07D401/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201203 上海市浦东新区*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种制备非肽类p53‑MDM2结合抑制剂二羟基异喹啉衍生物的合成方法。该方法包含如下步骤化合物1和化合物2通过还原胺化得到化合物3,再经过取代、氧化、还原胺化、脱保护酰胺化反应制得化合物I。本发明采用全新的合成路线,操作简便,收率高,安全性好,环境友好,成本低,有利于工艺化生产。
搜索关键词: 一种 p53 mdm2 结合 抑制剂 羟基 喹啉 衍生物 合成 方法
【主权项】:
一种如式I所示的化合物的制备方法,其特征在于包含下列步骤:1)化合物1与化合物2通过还原胺化得到化合物3;2)化合物3与溴乙酸甲酯在碱性条件下、经碘代物催化反应,得到化合物4;3)化合物4通过氧化得到化合物5;4)化合物5和化合物6通过还原胺化得到化合物7;5)化合物7和甲醛或多聚甲醛反应,经还原胺化得到化合物8;6)化合物8在酸性条件下脱保护后,碱性条件下酰胺环化得到化合物I;其中R1、R2为相同的或不同的取代或非取代的C1~C7的烷基、取代或非取代的C1~C7的环烷基、取代或非取代的C1~C7的杂环烷基;R3为氢、取代或非取代的C1~C6的烷基;n为0,1,2,3;X为卤素,所述卤素指氟、氯、溴;Z为CH、N。
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