[发明专利]包含嵌段共聚物的自组装结构和膜以及通过旋涂法(IIIa)制备它们的方法

摘要

公开了由式(I)的自组装性嵌段共聚物形成的自组装结构：其中，R¹‑R⁴、n和m如本发明所述，其用于制备纳米多孔膜。在自组装结构的实施方式中，嵌段共聚物自组装成圆柱形形态。还公开了制备这类自组装结构的方法，涉及旋涂含有二嵌段共聚物的聚合物溶液，获得薄膜，随后通过溶剂使薄膜退火。进一步公开了由自组装结构制备多孔膜的方法。

主权项

1.一种制备包含式(I)的二嵌段共聚物的自组装结构的方法：其中：R1是式-(CHR-CH2-O)p-R’的聚(氧化亚烷基)基团，其中p＝2-6，R是H或甲基，以及R’是氢、C1-C6烷基或者C3-C11环烷基；R2是C6-C20芳基或杂芳基，可选地被选自羟基、氨基、卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基以及硝基的取代基所取代；R3和R4之一是C6-C14芳基，可选地被选自羟基、卤素、氨基以及硝基的取代基所取代，以及R3和R4的另一个是C1-C22烷氧基，可选地被选自羧基、氨基、巯基、炔基、烯基、卤素、叠氮基以及杂环基的取代基所取代；n和m独立地是10至2000；其中带有R1的单体的体积分数与带有R2单体的比为15:85至30:70；该方法包含：(i)将二嵌段共聚物溶解于溶剂体系中以获得聚合物溶液；(ii)将聚合物溶液旋涂到基材上；(iii)将(ii)中所得涂层退火以获得自组装结构；以及，可选地，(iv)洗涤(ii)中所得自组装结构。