[发明专利]三联吡啶基团修饰的纳米二氧化硅粒子的制备和应用有效
| 申请号： | 201510423330.6 | 申请日： | 2015-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN105384769B | 公开（公告）日： | 2018-02-02 |
| 发明（设计）人： | 王克志;贾嘉;周红艳;亢思元 | 申请（专利权）人： | 北京师范大学 |
| 主分类号： | C07F7/21 | 分类号： | C07F7/21;G01N21/31;G01N21/78 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100875 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公布了一种三联吡啶基团修饰的纳米二氧化硅纳米粒子的制备方法及其应用于分光光度法和裸眼半定量测定水样中二价铁离子浓度的方法。该方法具有高的灵敏度和选择性。 | ||
| 搜索关键词： | 三联 吡啶 基团 修饰 纳米 二氧化硅 粒子 制备 应用 | ||
【主权项】：
一种三联吡啶基团共价修饰的纳米二氧化硅复合材料，其具体结构如下式所示：
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