[发明专利]一种4,4‑二甲基‑1,3‑二氧六环的合成装置有效

专利信息
申请号: 201510432007.5 申请日: 2015-07-21
公开(公告)号: CN104971665B 公开(公告)日: 2017-07-28
发明(设计)人: 肖远森;竺沛弘;任伟江;范能全;文金虎;姚守军 申请(专利权)人: 宁波金海晨光化学股份有限公司
主分类号: B01J8/02 分类号: B01J8/02;C07D319/06
代理公司: 宁波诚源专利事务所有限公司33102 代理人: 袁忠卫
地址: 315207 浙江省宁波市镇*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及到一种4,4‑二甲基‑1,3‑二氧六环的合成装置,包括设有压力检测口和水相出口的立式反应器,反应器内自上而下依次设有第一缓冲区、填料区和第二缓冲区;填料区包括自上而下依次间隔设置的上、中、下填料区;各填料区均包括连接在反应器内壁上的上、下支撑板和填充在其间的填料,各填料区的下方均设有进料分布器,第一缓冲区在反应器的侧壁上设有油相出口,第一缓冲区内还设有用于检测第一缓冲区内液位的第一液位计;所述第二缓冲区内设有用于检测第二缓冲区内液位的第二液位计;并且,对应于各缓冲区和各进料分布器,在所述反应器的侧壁上均设有温度计管口。本装置使反应物料在反应器内逆流接触,反应转化率高、反应彻底,副产物少。
搜索关键词: 一种 甲基 二氧 合成 装置
【主权项】:
一种4,4‑二甲基‑1,3‑二氧六环的合成装置,包括立式反应器,其特征在于所述反应器的顶部设有压力检测口,反应器的底部设有水相出口;所述反应器内自上而下依次设有第一缓冲区、填料区和第二缓冲区;所述填料区包括自上而下依次间隔设置的上填料区、中间填料区和下填料区;各填料区均包括上支撑板和下支撑板以及填充在上、下支撑板之间的填料,所述上、下支撑板均为镂空结构并连接在所述立式反应器的内壁上;所述上填料区和中间填料区之间设有上进料分布器,上进料分布器连接反应器侧壁上的上进料口,所述上进料口为磷酸水相入口;下填料区的下方设有下进料分布器,下进料分布器连接反应器侧壁上的异丁烯入口,中间填料区和下填料区之间设有中进料分布器,所述中进料分布器连接反应器侧壁上的中进料口;对应于第一缓冲区在所述反应器的侧壁上设有油相出口,第一缓冲区内还设有用于检测第一缓冲区内液位的第一液位计;所述第二缓冲区内设有用于检测第二缓冲区内液位的第二液位计;并且,对应于各缓冲区和各进料分布器,在所述反应器的侧壁上均设有温度计管口;所述中间填料区有两个,分别为位于上方的第一中间填料区和位于下方的第二中间填料区,所述中进料分布器和所述中进料口均有两个,分别为位于第一中间填料区和第二中间填料区之间的用于连接第一中进料口的第一中进料分布器、位于第二中间填料区和所述下填料区之间的用于连接第二中进料口的第二中进料分布器;所述第一中进料口为甲醛入口,所述第二中进料口为叔丁醇入口。
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