[发明专利]一种曝光镜头保护结构在审

专利信息
申请号: 201510434788.1 申请日: 2015-07-21
公开(公告)号: CN104965393A 公开(公告)日: 2015-10-07
发明(设计)人: 张磊;王晓光;卫功文 申请(专利权)人: 合肥芯硕半导体有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B7/02
代理公司: 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 代理人: 胡剑辉
地址: 230000 安徽省合肥*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供了一种曝光镜头保护结构,其包括镜筒,所述镜筒内最底端镜片通过光学胶固定在镜筒内壁,所述镜片下端设置有保护玻璃,所述保护玻璃与镜筒内壁无缝连接,所述保护玻璃下方还设有若干通气结构,所述通气结构在镜筒内所述保护玻璃下方产生向下的气流。本发明提供的保护镜头可以隔绝曝光镜头和挥发油墨有机气体直接接触,同时提供的保护玻璃可以单独拆卸,方便更换,不对曝光镜头的成像质量产生影响;同时通过压缩过滤空气对保护玻璃下表面进行保护。
搜索关键词: 一种 曝光 镜头 保护 结构
【主权项】:
一种曝光镜头保护结构,其特征在于,包括镜筒,所述镜筒内最底端镜片通过光学胶固定在镜筒内壁,所述镜片下端设置有保护玻璃,所述保护玻璃与镜筒内壁无缝连接,所述保护玻璃下方还设有若干通气结构,所述通气结构在镜筒内所述保护玻璃下方产生向下的气流。
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