[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示面板和显示装置有效

专利信息
申请号: 201510435044.1 申请日: 2015-07-22
公开(公告)号: CN105118835A 公开(公告)日: 2015-12-02
发明(设计)人: 黄维 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;上海交通大学
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/336;H01L29/786
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 李相雨
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种阵列基板及其制作方法、显示面板和显示装置,该制作方法包括:在栅绝缘层之上形成源极和漏极;在栅绝缘层和源极与漏极之上形成光刻胶;对光刻胶进行蚀刻形成沟道区,以露出源极和漏极之间的栅绝缘层,以及部分源极和部分漏极;在沟道区形成有源层,以覆盖漏出的栅绝缘层、部分源极和部分漏极。通过本发明的技术方案,可以先形成源极和漏极,然后通过光刻胶形成沟道区,进而在沟道区直接形成有源层,无需对形成有源层的半导体材料进行蚀刻,从而避免对有源层造成损伤。
搜索关键词: 阵列 及其 制作方法 显示 面板 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板制作方法,其特征在于,包括:在栅绝缘层之上形成源极和漏极;在所述栅绝缘层和源极与漏极之上形成光刻胶;对所述光刻胶进行蚀刻形成沟道区,以露出所述源极和漏极之间的栅绝缘层,以及部分源极和部分漏极;在所述沟道区形成有源层,以覆盖漏出的栅绝缘层、所述部分源极和所述部分漏极。
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