[发明专利]三维集成电路的制造方法有效

专利信息
申请号: 201510438514.X 申请日: 2012-06-08
公开(公告)号: CN105118810B 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: 林俊成;吴文进;施应庆;洪瑞斌;卢思维;郑心圃;余振华 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L23/52;H01L21/768
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种制造三维集成电路的方法,包括:提供晶圆叠层,其中,将多个半导体管芯安装在第一半导体管芯上方;将模塑料层形成在第一半导体管芯的第一面上方,其中,将多个半导体管芯内嵌在模塑料层中。方法进一步包括:研磨第一半导体管芯的第二面直到暴露多个通孔;将晶圆附接至带框并切割晶圆叠层,从而将晶圆叠层分成多个独立封装件。
搜索关键词: 三维集成电路 制造 方法
【主权项】:
1.一种三维集成电路结构,包括:多个半导体管芯,接合在管芯的第一面上方;以及模塑料层,形成在所述管芯的所述第一面上方,其中,将所述多个半导体管芯的一部分内嵌在所述模塑料层中,并且其中,所述模塑料层暴露出所述多个半导体管芯的剩余部分的外表面;保护材料,仅形成在所述模塑料层的边缘和所述管芯的边缘之间;其中,所述多个半导体管芯包括第一半导体管芯和第二半导体管芯,所述第一半导体管芯的顶面从所述模塑料层暴露,而所述第二半导体管芯的顶面或底面均未从所述模塑料层暴露。
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