[发明专利]纳米颗粒90度散射光谱的测量方法有效

专利信息
申请号: 201510443902.7 申请日: 2015-07-24
公开(公告)号: CN105092426B 公开(公告)日: 2017-11-28
发明(设计)人: 白本锋;杨国策 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G01N15/00 分类号: G01N15/00;G01N15/02
代理公司: 深圳市鼎言知识产权代理有限公司44311 代理人: 哈达
地址: 100084 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种纳米颗粒90散射光谱的测量方法,包括提供一测量系统;校准光谱测量系统;利用标准物质对光谱测量系统标定;将测量样品池中标准纳米颗粒更换为待测纳米颗粒,将参考样品池放入待测纳米颗粒的分散溶剂,测量待测纳米颗粒样品,得到待测纳米颗粒的相对透过率;然后将参考样品池放空,测量待测纳米颗粒样品,得到待测纳米颗粒的透过率为以及90度散射光与参考光光强比值;根据相对透过率、透过率为以及90度散射光与参考光光强比值获取待测纳米颗粒90度散射光谱S90(λ)。
搜索关键词: 纳米 颗粒 90 散射 光谱 测量方法
【主权项】:
一种纳米颗粒90度散射光谱的测量方法,包括以下步骤:步骤S10,提供一测量系统,包括:光源模组,用以产生单色光;斩光器,用以将光源模组产生的单色光分成一参考光及一测量光两路光束;一参考样品池及一衰减片依次设置于所述参考光的光路上;一反射模组设置于所述测量光的出射光路,使入射到待测样品的测量光与从待测样品出射的测量光形成一夹角;一测量样品池,设置于反射模组反射的测量光的光路上,并承载待测样品;以及光电探测及处理单元,用于探测从测量样品池出射的测量光以及从衰减片出射的参考光;步骤S11:校准光谱测量系统,测量光路和参考光路中的参考样品池及测量样品池为空,光电探测及处理单元探测正入射直线透射的测量光与参考光光强比值T0(λ)作为基准;步骤S12,将标准纳米颗粒放入测量样品池中,参考样品池放空,利用标准物质对光谱测量系统标定,以标定反射模组的反射率以及衰减片和透镜的透过率对测量结果造成的贡献;步骤S13:将测量样品池中标准纳米颗粒更换为待测纳米颗粒,将参考样品池放入待测纳米颗粒的分散溶剂,测量待测纳米颗粒样品,得到待测纳米颗粒的相对透过率然后将参考样品池放空,测量待测纳米颗粒样品,得到待测纳米颗粒的透过率为TNP(λ)以及90度散射光与参考光光强比值步骤S14:根据相对透过率透过率为TNP(λ)以及90度散射光与参考光光强比值获取待测纳米颗粒90度散射光谱S90(λ):其中,为测量样品池中为标准纳米颗粒样品,参考样品池为空时,光电探测及处理单元探测测量光路90度散射光与参考光路正入射直线透射光光强比值;为球形PS小球的90度、波长为λ的归一化散射矩阵第一行第一列的元素;为标准纳米颗粒样品相对于分散溶剂的相对透过率;l为测量样品池内侧边长;KPS标准纳米颗粒的消光因子;KPS为待测纳米颗粒的消光因子。
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