[发明专利]组合薄膜制备及原位表征系统在审

专利信息
申请号: 201510446068.7 申请日: 2015-07-27
公开(公告)号: CN105132864A 公开(公告)日: 2015-12-09
发明(设计)人: 郇庆;何格;袁洁;金魁;刘利 申请(专利权)人: 中国科学院物理研究所
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/28;C23C14/35
代理公司: 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 代理人: 蔡纯;冯丽欣
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 公开了一种组合薄膜制备及原位表征系统,包括:生长腔,所述生长腔中设有组合薄膜生长装置,用于在基片上生长组合薄膜;至少一个表征腔,所述表征腔中设有组合薄膜表征装置;准备腔,用于对所述基片、样品以及测试探针进行预处理;中转腔,所述中转腔同生长腔、表征腔以及准备腔之间分别通过管道连接,所述管道设有阀门;机械臂,用于在所述中转腔、表征腔以及生长腔之间传递样品。该系统复用中转腔实现不同腔室之间的真空互联,从而可以实现原位表征和准原位表征。
搜索关键词: 组合 薄膜 制备 原位 表征 系统
【主权项】:
一种组合薄膜制备及原位表征系统,包括:生长腔,所述生长腔中设有组合薄膜生长装置,用于在基片上生长组合薄膜;至少一个表征腔,所述表征腔中设有组合薄膜表征装置;准备腔,用于对所述基片进行预处理;中转腔,所述中转腔同生长腔、表征腔以及准备腔之间分别通过管道连接,所述管道设有阀门;机械臂,用于在所述中转腔、表征腔以及生长腔之间传递样品。
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